Caractéristiques :
UrgoStart Border offre tous les avantages de la matrice TLC-NOSF, et des bords adhésifs siliconés : maintien d'un milieu humide, accélération du processus de cicatrisation, retrait atraumatique et indolore.
La matrice TLC ou Technologie Lipido-Colloïde, combinée au NOSF (Nano-Oligo Saccharide Factor) est une technologie innovante et brevetée qui, au contact des exsudats de la plaie, se gélifie et crée un milieu humide pour que s'exerce l'action des cellules clés impliquées dans le processus de réparation (fibroblastes, kératinocytes, macrophages).
La matrice TLC-NOSF interagit avec le micro-environnement de la plaie en limitant l'action néfaste des Métallo Protéases Matricielles (MMP), qui en excès dans les plaies chroniques entraînent une dégradation continue de la matrice extra-cellulaire et un retard de cicatrisation.
La matrice TLC-NOSF permet donc de rétablir les conditions favorables au bourgeonnement des plaies chroniques. UrgoStart Border favorise une cicatrisation plus rapide.
La compresse absorbante de mousse polyuréthane et la couche super-absorbante d'UrgoStart Border assurent un drainage optimal des exsudats évitant la macération. Le pansement peut être posé sous compression, lorsque celle-ci est prescrite.
Le support imperméable d'UrgoStart Border est doux, très conformable et non-occlusif : il permet une bonne conformabilité aux différents reliefs anatomiques de la plaie, évite la fuite d'exsudats et forme une barrière contre la contamination bactérienne de l'extérieur. Sa forte perméabilité aux échanges gazeux assure la vaporisation de l'excédent d'exsudats, limitant tout risque de macération. Il suit les mouvements du corps et garantit le confort du patient. Les bords siliconés adhésifs assurent une bonne adhésivité avec une haute tolérance cutanée ; il peut être facilement repositionné.
Le support adhésif évite l'utilisation d'un pansement secondaire. Grâce à sa transparence il est possible de contrôler la saturation du pansement pour le renouveler uniquement lorsque nécessaire.